文/北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 王靜宇
日本專利局（簡稱JPO）于2019年4月1日起啟用了新的減免制度，和舊的官費減免制度相比，新制度適用范圍更廣，減免力度更大。對于中小企業(yè)、個人、大學以及研究機構(gòu)來說，如果滿足一定要求，即可減免一定比例的實審請求費和專利年費。JPO更在2020年12月對于費用減免請求的手續(xù)進行了簡化，對于2021年1月以后提交的費用減免請求無需加蓋印章，也無需再提交各項繁瑣的證明文件。
●發(fā)明官費標準
單位：日元
●減免內(nèi)容
對于在2019年4月1日之后提出實審請求的日本發(fā)明專利申請，其實審請求費和專利年費將按照下表內(nèi)容進行減免：
若為他人提出的實審請求（或技術(shù)評估請求）則不符合減免條件
●減免要求
根據(jù)最新的減免政策，只需要在實審請求書中填寫“有關(guān)費用的特別說明”一欄的申請人符合的減免條件，如“申請人屬于專利法實施法令第10條第XX款的情形”即可。無需再填寫減免申請表及相關(guān)證明文件。
●減免申請期限
申請人必須在提出實質(zhì)審查請求和/或進行權(quán)利要求數(shù)量增加的修改時，或者在專利年費繳納時同時提出官費減免請求，不能后補減免申請。
●外國申請人適用情況
對于外國申請人來說，其實審請求費和專利年費對應(yīng)日本國內(nèi)申請人政策如下：
●符合減免資格的申請人
1.中小企業(yè)（SMEs）（法律依據(jù)：專利法實施法令第10條第1 款）
符合中小企業(yè)資格的申請人，應(yīng)在支付官費時屬于1）以下三種實體類型中的其中一種，不包括符合小規(guī)模企業(yè)、中小型初創(chuàng)公司的申請人；2）不包括受大企業(yè)控制的中小企業(yè)【注1】:
(a)中小企業(yè)
*1百萬日元≈5.1萬人民幣
*雇員指全職職工
*橡膠產(chǎn)品制造業(yè)不含汽車飛機的輪胎與管道制造，以及不含工業(yè)傳送帶的制造
*資本額指資產(chǎn)負債表中的資本金額
(b)聯(lián)盟和合作社
(c)非盈利組織(NPO)
2.研發(fā)型中小企業(yè)（法律依據(jù)：專利法實施法令第10條第2款）
研發(fā)型中小企業(yè)首先必須滿足1.（a）中所述中小企業(yè)的資格；其次必須滿足以下三種情況之一：
?。╝）試驗和研發(fā)成本占上一年營業(yè)總收3%以上的個人和公司實體;
?。╞）有關(guān)于以下任一項目的成果相關(guān)的發(fā)明創(chuàng)造或發(fā)明專利（應(yīng)在計劃、事業(yè)終止之日起的兩年內(nèi)提交專利申請）：
-中小企業(yè)技術(shù)革新研究制度（SBIR）資助項目；
-已批準的管理革新計劃中與技術(shù)相關(guān)的研發(fā)項目；
-開發(fā)交叉行業(yè)合作相關(guān)的新商業(yè)部門的認證計劃相關(guān)的研發(fā)項目；
-加強中小企業(yè)核心制造技術(shù)法的批準計劃相關(guān)的特別研發(fā)項目。
?。╟）有關(guān)于以下計劃獲得專利權(quán)或者專利申請權(quán)相關(guān)的發(fā)明創(chuàng)造或?qū)＠暾垼?/p>
-已批準的管理革新計劃；
-開發(fā)交叉行業(yè)合作相關(guān)的新商業(yè)部門的認證計劃；
-加強中小企業(yè)核心制造技術(shù)法的批準計劃。
研發(fā)型中小企業(yè)不包括符合小規(guī)模企業(yè)、中小型初創(chuàng)公司的申請人。
3.研發(fā)機構(gòu)（法律依據(jù)：專利法實施法令第10條第3款）
符合該條款下研發(fā)機構(gòu)資格的申請人，應(yīng)在支付官費時屬于以下三種實體類型中的其中一種，不包括符合小規(guī)模企業(yè)、中小型初創(chuàng)公司的申請人:
4.小規(guī)模企業(yè)（法律依據(jù)：專利法實施法令第10條第4款）
符合該條款下小規(guī)模企業(yè)資格的申請人，應(yīng)在支付官費時屬于以下兩種實體類型中的其中一種：
5.中小型初創(chuàng)公司（法律依據(jù)：專利法實施法令第10條第5款）
符合該條款下中小型初創(chuàng)公司的申請人，應(yīng)在支付官費時屬于以下兩種實體類型中的其中一種：
注1：受大企業(yè)控制的中小企業(yè)指的是：
1）受到1家大企業(yè)控制指的是該大企業(yè)持有股份或者出資相當于股份總額或者出資總額1/2及以上；
2）受到多家大企業(yè)控制指的是多家大企業(yè)合計的持有股份或者出資相當于股份總額或者出資總額2/3及以上。